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半導體/電子特氣領(lǐng)域純化設(shè)備供應(yīng)商
HON-N-HW系列氮氣純化器
系列 Series |
雜質(zhì) Impurity |
入口 Inlet(ppm) |
出口 Outlet(ppm) |
HON-N-OS/OW/OV |
O2 |
<1000 |
<1 |
H2 |
- |
<1 |
|
CO |
- |
<1 |
|
CO2 |
- |
<1 |
|
NMHC |
- |
<1 |
|
H2O |
<10 |
<1 |
|
PARTICLES |
- |
- |
|
Pressure Drop |
<1bar |
||
Flow |
100~12000Nm3/h |
工藝介紹:
(1)常溫加氫脫氧,氣體O2與氫氣反應(yīng)轉(zhuǎn)化為H2O。
(2)通過物理和化學吸附進一步脫除O2、CO、H2、CO2、H2O。
(3)吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生,反復(fù)使用。
(4)多柱交替吸附、再生,可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域:
化工工業(yè)氣
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