工藝介紹：

（1）高溫催化氧化工序，氣體中CH4、還原性雜質(zhì)與O2反應(yīng)轉(zhuǎn)化為H2O和CO2。

（2）通過物理和化學吸附進一步脫除O2、CO、H2、CO2、H2O。

（3）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復使用。

（4）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。

應(yīng)用領(lǐng)域：

集成電路制造行業(yè)

半導體、LED、激光、太陽能光伏行業(yè)

光纖行業(yè)

高純氣體分析