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半導(dǎo)體/電子特氣領(lǐng)域純化設(shè)備供應(yīng)商
HON-N-S/W/VVV系列氮?dú)饧兓?/h1>
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系列 Series |
雜質(zhì) Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
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HON-N-S/W/VVV |
O2 |
＜3 |
＜1 |
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H2 |
＜1 |
＜1 |
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CO |
＜1 |
＜1 |
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CO2 |
＜1 |
＜1 |
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THC |
-- |
-- |
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H2O |
＜3 |
＜1 |
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PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
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Pressure Drop |
＜1bar |
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Flow |
10～20000Nm3/h |
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工藝介紹：
- 物理吸附脫除CO2、H2O 、H2，化學(xué)吸附脫除O2、CO雜質(zhì)。
- 吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復(fù)使用。
- 多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
- 集成電路制造行業(yè)
- 半導(dǎo)體、LED、激光、太陽能光伏行業(yè)
- 光纖行業(yè)
- 化工行業(yè)
- 高純氣體分析
產(chǎn)品詳情
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