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半導(dǎo)體/電子特氣領(lǐng)域純化設(shè)備供應(yīng)商
HON-H-X系列氫氣純化器
系列 Series |
雜質(zhì) Impurity |
入口 Inlet(ppm) |
出口 Outlet(ppb) |
HON-H-X |
O2 |
<3 |
<1 |
N2 |
<1 |
<1 |
|
CO |
<1 |
<1 |
|
CO2 |
<1 |
<1 |
|
THC |
<1 |
<1 |
|
H2O |
<3 |
<1 |
|
PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
|
Pressure Drop |
<1bar |
||
Flow |
10~500Nm3/h |
工藝介紹:
(1)通過吸氣工序高溫深度脫除O2、CO、CO2、H2O、 CH4、N2等雜質(zhì)。
(2)吸氣反應(yīng)器吸附飽和后須整體更換。
應(yīng)用領(lǐng)域:
集成電路制造行業(yè)
半導(dǎo)體、LED、激光、太陽能光伏行業(yè)
氣體行業(yè)
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