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半導體/電子特氣領域純化設備供應商
HON-O-OS/OW/OV系列氧氣純化器
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系列 Series |
雜質 Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
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HON-O-OS/OW/OV |
H2 |
＜1 |
＜1 |
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CO |
＜1 |
＜1 |
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CO2 |
＜1 |
＜1 |
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THC |
＜2 |
＜1 |
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H2O |
＜3 |
＜1 |
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PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
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Pressure Drop |
＜1bar |
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Flow |
10～12000Nm3/h |
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工藝介紹：
（1）高溫催化氧化工序，氣體中CH4、還原性雜質與O2反應轉化為H2O和CO2。
（2）通過物理吸附脫除CO2、H2O。
（3）吸附反應器吸附飽和后可通氧氣加熱再生，反復使用。
（4）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應用領域：
集成電路制造行業(yè)
半導體、LED、激光、太陽能光伏行業(yè)
光纖行業(yè)
氣體行業(yè)
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