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半導(dǎo)體/電子特氣領(lǐng)域純化設(shè)備供應(yīng)商
HON-CO2-OS/OW/OV系列二氧化碳純化器
系列 Series |
雜質(zhì) Impurity |
入口 Inlet(ppm) |
出口 Outlet(ppb) |
HON-CO2-OS/OW/OV |
O2 |
<3 |
<1 |
H2 |
<1 |
<1 |
|
CO |
<1 |
<1 |
|
CH4 |
<0.5 |
<1 |
|
H2O |
<3 |
<1 |
|
揮發(fā)性酸VA |
-- |
<0.005 |
|
揮發(fā)性堿VB |
-- |
<0.5 |
|
耐熔化合物RC |
-- |
<0.005 |
|
可冷凝有機(jī)物Corg |
-- |
<0.15 |
|
不凝有機(jī)物Ncorg |
-- |
<1 |
|
Flow |
10~3000Nm3/h |
工藝介紹:
(1)高溫催化氧化工序,氣體中CH4、還原性雜質(zhì)與O2反應(yīng)轉(zhuǎn)化為H2O和CO2。
(2)使用特殊純化材料,通過(guò)物理和化學(xué)吸附方式脫除O2、CO、H2O、H2、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機(jī)物Corg、不凝有機(jī)物Ncorg等雜質(zhì)。
(3)吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生,反復(fù)使用。
(4)多柱交替吸附、再生,可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域:
純化用于半導(dǎo)體應(yīng)用的二氧化碳
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