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半導(dǎo)體/電子特氣領(lǐng)域純化設(shè)備供應(yīng)商
HON-XCDA-S/W/V系列XCDA純化器
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系列 Series |
雜質(zhì) Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
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HON-XCDA-S/W/V |
NMHC |
-- |
＜1 |
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H2O |
-- |
＜1 |
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揮發(fā)性酸VA |
-- |
＜1 |
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揮發(fā)性堿VB |
-- |
＜1 |
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耐熔化合物RC |
-- |
＜1 |
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總有機(jī)碳TOC |
-- |
＜1 |
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Flow |
10～10000Nm3/h |
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工藝介紹：
（1）使用特殊純化材料，通過(guò)吸附方式脫除H2O、NMHC、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、總有機(jī)碳TOC等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可加熱再生，反復(fù)使用。
（3）該氣體純化系統(tǒng)通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)原位再生和先進(jìn)的技術(shù)，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脫除CDA中的污染雜質(zhì)，滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)需求
（4）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
純化用于半導(dǎo)體應(yīng)用的XCDA
產(chǎn)品詳情
工藝介紹：
（1）使用特殊純化材料，通過(guò)吸附方式脫除H2O、NMHC、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、總有機(jī)碳TOC等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可加熱再生，反復(fù)使用。
（3）該氣體純化系統(tǒng)通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)原位再生和先進(jìn)的技術(shù)，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脫除CDA中的污染雜質(zhì)，滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)需求
（4）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
（1）使用特殊純化材料，通過(guò)吸附方式脫除H2O、NMHC、揮發(fā)性酸VA、揮發(fā)性堿VB、耐熔化合物RC、總有機(jī)碳TOC等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可加熱再生，反復(fù)使用。
（3）該氣體純化系統(tǒng)通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)原位再生和先進(jìn)的技術(shù)，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脫除CDA中的污染雜質(zhì)，滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)需求
（4）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
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